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CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)
CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)

CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶(hù)和工業(yè)級(jí)客戶(hù)而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景。適用于等離子清洗,活化以及刻蝕等多種應(yīng)用,設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行...

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原子層沉積研究設(shè)備
原子層沉積研究設(shè)備

Beneq TFS 200 是有史以來(lái)最靈活的原子層沉積研究平臺(tái),專(zhuān)為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì),可最大限度地減少多用戶(hù)研究環(huán)境中可能發(fā)生的任何交叉污染。大量的...

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掃描式光刻機(jī)
掃描式光刻機(jī)

1、Nikon S207D掃描式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線(xiàn)廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域2、產(chǎn)品詳情主要技術(shù)指標(biāo)分辨率0.11&...

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掃描式光刻機(jī)
掃描式光刻機(jī)

1、Nikon S208D掃描式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線(xiàn)廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等領(lǐng)域2、產(chǎn)品詳情主要技術(shù)指標(biāo)分辨率0.11&...

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深硅刻蝕機(jī)
深硅刻蝕機(jī)

深硅刻蝕機(jī)PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕,同時(shí)兼具Bosch/Non-Bosch工藝,實(shí)現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機(jī)臺(tái)針對(duì)Bosch循環(huán)工藝方式采用專(zhuān)業(yè)先進(jìn)的快速響應(yīng)硬件配置及軟件流程控制,結(jié)合先...

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化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP
化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP簡(jiǎn)介:1. 該化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)可用于各類(lèi)半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。 通過(guò)更換拋光頭可兼容4、6、8英寸晶圓2. 系統(tǒng)功能:手動(dòng)上下片,程序...

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劃片機(jī)
劃片機(jī)

精密劃片機(jī),劃片機(jī) 簡(jiǎn)介:半導(dǎo)體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽(yáng)能電池、電子基片等的劃切,適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮酸鋰、藍(lán)寶石和玻璃等。

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CMP后清洗機(jī)
CMP后清洗機(jī)

CMP后清洗機(jī) 簡(jiǎn)介:該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專(zhuān)用清洗設(shè)備,有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線(xiàn)式等不同結(jié)構(gòu),以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景,其中連線(xiàn)式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹...

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自動(dòng)光學(xué)檢查系統(tǒng)
自動(dòng)光學(xué)檢查系統(tǒng)

自動(dòng)光學(xué)檢查系統(tǒng) 簡(jiǎn)介:全自動(dòng)AOI系統(tǒng)可獲取目標(biāo)表面高分辨率圖像,并根據(jù)用戶(hù)標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行光學(xué)檢測(cè)。例如,激光二極管的端面檢查,鍍膜的質(zhì)量監(jiān)控,表面檢查,半導(dǎo)體芯片的頂部/底部/側(cè)壁檢查,以及晶片分揀。

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回流焊爐
回流焊爐

回流焊爐簡(jiǎn)介:1. 應(yīng)用領(lǐng)域:無(wú)助焊劑焊接;倒裝芯片焊接;鍵合;Bump回流焊接;微電子封裝;功率器件焊接;晶圓熱處理;工藝研發(fā);質(zhì)量控制2. 加熱區(qū)域:4、6、8、12英寸3. 腔體高度:40mm ...

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減薄機(jī)
減薄機(jī)

減薄機(jī) 簡(jiǎn)介:1. 可根據(jù)客戶(hù)需求定制化各類(lèi)工作臺(tái),滿(mǎn)足各類(lèi)半導(dǎo)體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸:8英寸3. 砂輪規(guī)格:Ø203(OD)mm4. 砂輪軸轉(zhuǎn)速范圍:0~6000 RPM5...

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共晶爐
共晶爐

德國(guó)UNITEMP真空共晶爐、燒結(jié)爐,緊湊臺(tái)式設(shè)計(jì),可在氮?dú)?甲酸等氛圍操作,廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝,以及金-硅合金,密集焊接和回流共晶。

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半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)
半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)

半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一款操作簡(jiǎn)單的桌面型單面拋光設(shè)備,可搭配銅盤(pán)、錫盤(pán)、玻璃盤(pán)、不銹鋼盤(pán)等,配合不同類(lèi)型的拋光液,適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光,滿(mǎn)足科研院校、企業(yè)的研發(fā)及小批量生產(chǎn)。

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掃描電鏡SEM
掃描電鏡SEM

掃描電鏡SEM簡(jiǎn)介:FE-SEM獲得的圖像分辨率高,信息豐富,樣品處理相對(duì)簡(jiǎn)單,并且它可以觀(guān)察、測(cè)量并分析樣品的細(xì)微結(jié)構(gòu),因此被廣泛應(yīng)用于納米技術(shù)、半導(dǎo)體、電子器件、生命科學(xué)、材料等領(lǐng)域。

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透射電鏡TEM
透射電鏡TEM

透射電鏡TEM 介紹:1. 配備了高靈敏度sCMOS相機(jī)、超廣視野的蒙太奇系統(tǒng)以及光學(xué)顯微鏡圖像的聯(lián)動(dòng)功能,是一款新型的高通量、高分辨率 的120kV透射電子顯微鏡2. TEM分辨率 (nm):0.1...

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聚焦離子束系統(tǒng)FIB
聚焦離子束系統(tǒng)FIB

聚焦離子束系統(tǒng)FIB是將離子源產(chǎn)生的離子束經(jīng)過(guò)離子槍加速,聚焦后作用于樣品表面,應(yīng)用于:產(chǎn)生二次電子信號(hào)取得電子像,此功能與SEM相似,用強(qiáng)電流離子束對(duì)表面原子進(jìn)行剝離,以完成微、納米級(jí)表面形貌加工,...

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  • 實(shí)驗(yàn)型顯影機(jī)在材料研發(fā)中發(fā)揮的作用介紹2024-10-27

    實(shí)驗(yàn)型顯影機(jī)是用于在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中對(duì)多種樣本進(jìn)行顯影和分析的一種設(shè)備。通常用于科學(xué)研究、教育以及工業(yè)檢測(cè)等領(lǐng)域,尤其是在化學(xué)、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等學(xué)科中具有重要的應(yīng)用價(jià)值。顯影機(jī)通過(guò)對(duì)樣本應(yīng)用顯影劑,使得樣本在特定條件下可以清晰地顯現(xiàn)出其結(jié)構(gòu)...
  • 高精密單面光刻機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)詳細(xì)介紹2024-09-22

    高精密單面光刻機(jī)是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造和微電子技術(shù)中的重要設(shè)備。它主要用于在半導(dǎo)體晶圓上進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移,以形成集成電路、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)和其他微型器件的結(jié)構(gòu)。隨著科技的不斷進(jìn)步,對(duì)光刻機(jī)的精度、速度和可靠性提出了更高的要求。高精密單面光刻機(jī)的...
  • 半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)的具體工作流程介紹2024-08-25

    半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中至關(guān)重要的設(shè)備之一。主要用于對(duì)硅片、砷化鎵等半導(dǎo)體材料進(jìn)行表面處理,以確保材料表面光滑、平整,達(dá)到高質(zhì)量的電氣性能和光學(xué)性能。在半導(dǎo)體制造中,晶圓(wafer)是基本的生產(chǎn)單元。晶圓在經(jīng)歷了多道工藝后,表面...
  • 半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)能夠在短時(shí)間內(nèi)完成高精度的加工任務(wù)2024-07-25

    半導(dǎo)體器件作為當(dāng)今信息技術(shù)領(lǐng)域的核心組成部分,其制造的關(guān)鍵在于對(duì)器件表面的加工處理。而半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)作為半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備之一,在提供高精度加工和拋光服務(wù)方面發(fā)揮著重要作用。作為半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備,在提高生產(chǎn)效率、質(zhì)量和器件性能方...
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